GaN
DEVICE PHYSICS / RF NONLINEARITY

GaN RF HEMT 物理数字展台

教学模型 · 未经标定模型手册 ↗
从结构找到因果

选一个问题,动手看清楚。

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AlGaN / GaN ON SiC

单栅指 · 局部物理视窗

Lg 0.25 µm · Wfinger 200 µm · 单音 RF
拖动旋转 · 滚轮缩放 · 点击材料
有源区垂直 ×5 / 栅宽 ÷100 · 衬底截短
统计密度色带 · 空间重建非 TCAD
电子面密度 · 固定色标
010¹³ cm⁻²
DEVICE → INTERFACE → MECHANISM

进入微观,沿着变化寻找原因。

局部视野 1.52 µm · 横向

点击电子样本、晶格或陷阱,辨认它与读数的对应关系。

青色:统计电子样本 · 金色:电场 / 固定电荷 · 紫色:陷阱 · 橙色:晶格
垂直与粒子大小夸张;非原子比例。拖动旋转,滚轮查看;放大按钮缩小实际横向取样范围。

栅控与耗尽

青色点的可见数量编码局部重建面密度。负栅偏置使栅下趋于耗尽;点代表统计样本,不是一颗实际电子。

Vg → 有效过驱动 → ID 与 gm → 截止、压缩。局部密度不参与端口电流反算。

取样位置 x / 源 → 漏
0.915 µm
重建 ns
9.84 ×10¹² cm⁻²
局部 Ex / 电势
-1.38 V/µm / 0.67 V
端口总 ID / ig
174.85 / 0.186 mA
慢状态 T / 陷阱占据 x
300.0 K / 0.000

空间量是经验重建,电流、电荷与慢状态来自现有端口模型;动画不求解电子轨迹、量子子带或二维 Poisson。相位暂停时微观图也暂停。

RF 相位慢放
80°
内外端口 · 同一时间解t = 0.742 ns
-6.060.0130.990.8438.041.6715.12.522.23.33Vt / ns
━ VGS,int━ VGS,ext━ VDS,int━ VDS,ext
-17.30.01334.80.84386.81.671392.51913.33mA · 流入为正t / ns
━ ID 导电━ iD 端口━ ig 位移
求解完成 · KCL 3.1e-17 A · Newton 9.1e-12 A · 周期闭合 5.3e-15 V
GUIDED EXPLORATION / 04

驱动进入截止与膝区

看到了什么

沟道周期性趋于耗尽,动态负载线接近低漏压膝区。

物理过程

截止、速度饱和和有限漏压共同限制电流摆幅。

进入电学模型

I(u,VDS) 中的平滑截止、饱和项和 tanh 膝区项产生高阶响应。

射频表现

观察波形削顶、谐波和 AM-AM 压缩;扫幅曲线计算实际增益下降。

工程干预与代价

提高漏偏置/改变负载可增大摆幅,但增加耗散和电场应力。

模型手册 · 方程、参考面与数值实现

全部数值均为教学模型结果,非真实器件预测。此应用没有求解 Poisson、漂移扩散、Schrödinger 或热传导 PDE;也没有实现或复用 ASM-HEMT 的完整方程。SiC 上耗尽型肖特基栅 AlGaN/GaN 是代表性结构,场板、背势垒和缓冲层并非统一配置。当前无背势垒模型。

源极和示意背面接地。输入为 VGG 叠加正弦 Thevenin 源,经 50 Ω 源电阻及 8 Ω 栅电阻连接内禀栅。理想电源 VDD 经 RL 和 2 Ω 漏电阻连接内禀漏。RL 承受直流和射频损耗,是宽带电阻加载 Class-AB 教学边界;没有宣称为高效率调谐 PA。正端口电流流入器件。栅漏电流、击穿、源电感、传输延迟和 NQS 未实现。

W = Nfinger × Wfinger / 1000 [mm] u = softplus(Vg + 3.3 − 0.65x, smoothing=0.13 V) I = 0.85 W u^1.5 / (1+u/2.2) × tanh[Vd/(1.2+0.6u)] × (1+0.004 max(Vd,0)) × (300/T)^1.3 / (1+0.4x) × √(0.25/Lg) / [1+0.045(Lsg+Lgd−2.8)] [A] Cgs = 1.4 W (Lg/0.25)(20/tb) [pF] Cgd = 0.13 W [pF]; Cfp = W Lfp · enabled [pF] Cgs,fp = 0.15 Cfp; Cds = 0.35 W + 0.30 Cfp [pF] F(g) = 0.25g + 0.75 softplus(g+3.3,0.4 V) H(z) = z + 2 log cosh(z/10), z = Vg−Vd Qg = Cgs F(Vg) + Cgs,fp Vg + Cgd H(Vg−Vd) Qd = Cds Vd − Cgd H(Vg−Vd); Qs = −Qg−Qd ig = ΔQg/Δt; id,port = I + ΔQd/Δt; is = −I + ΔQs/Δt (Vg−Vs)/(50+Rg) + ig = 0 (Vd−VDD)/(RL+Rd) + id,port = 0

源场板接 S = 0 V,跨栅金属与栅帽之间代表绝缘介质间隔(未单独绘制)。新增电荷分别属于 G–S 和 D–S 支路;Cgd 保持基线,不模拟屏蔽的定量收益。场板系数是教学假设,非场求解或器件提取。电荷来自三个正微分电容支路,满足电荷守恒与可积性;它不是经过标定的输运电荷分区模型,也不由三维重建面密度积分得出。使用后向 Euler 和双变量 Newton(数值 Jacobian),每步最多 12 次,电流残差目标 10⁻¹¹ A。默认每载波周期 256 点。单音预热 6 周期、记录 1 周期;双音 f₂=65f₁/64,预热和记录各 64 周期。显示周期闭合误差以检查稳态。矩形窗只适用于当前相干采样;不输出 EVM 或 ACLR。

频率限制 0.05–1 GHz,仅为准静态教学探索范围,不是经验证的有效带宽。Cgd 反馈与外部 RC 确实随频率变化;未加入任意“频率标签修正”。导电关系线性化采用 (VGG,VDD) 切平面,是小信号对照,强驱动下可能产生非物理负电流,因此该模式不可用于效率或大信号性能判断。线性化电荷保留该点的电荷值及微分电容。

慢状态、空间映射和固定色标
Cth = τth/Rth [J/K], Rth = 45 K/W, τth = 100 µs T∞ = 300 K + Rth × ⟨Vd I⟩; 指数更新,时间步长 10 µs stress = sigmoid[(⟨Vd⟩ − 13 V)/3 V] kc = stress/τcapture; ke = exp[(T−300)/100]/τrelease τcapture = 15 µs, τrelease = 250 µs; x∞ = kc/(kc+ke) xnext = x∞ + (x−x∞) exp[−(kc+ke) Δt]

包络采用双时间尺度的周期平均近似:在每个 10 µs 步长冻结温度与陷阱,以 96 点/周期求载波响应并更新状态。脉冲在 100–500 µs 开启,关断段 RF 幅度为 2%;VGG 与 VDD 一直存在,因此不是冷却到零耗散。调幅包络为 800 µs 的余弦幅度轮廓。状态初值 T=300 K、x=0。热阻为整个当前等效器件的用户输入,增加栅指不会自动保持结温不变。

单音和双音默认冻结于当前所选慢时刻;“开启热/陷阱”通过历史重算改变电流。慢状态冻结不等于完成带记忆的全时域双音分析。多栅指电学采用等同并联,ID,total=N·ID,finger,电荷同样缩放;共用一个热节点表示共同升温,没有求解每指温差、独立馈电寄生或热耦合矩阵。

z = x/L, e = (Lsg+Lg)/L, w = 0.07+0.035 Lfp·enabled h = min(0.82, 0.25+0.5|Vd|/(|Vd|+4)) A(z) = atan[(z−e)/w], D = A(1)−A(0) φ(z) = Vd[(1−h)z + h(A(z)−A(0))/D] Ex = −Vd/L × [(1−h)+h/(w(1+((z−e)/w)^2)D)] [V/µm] vvisual = 10⁵ tanh(−0.14 Ex) [m/s]

φ 在源/漏分别等于 0/Vd,Ex 是它的解析负梯度;每 5 V 等值面是一维 φ 沿宽度和显示高度外推的平面,不是二维静电求解;未满足二维 Poisson 边界。面密度用阈值、陷阱、栅区权重与漏侧耗尽重建,范围约 0–10¹³ cm⁻²;速度为场相关示意,不用它反算 ID。温度色带是从共同热节点分配的高斯形状,不是热扩散解。陷阱色带以 x 加漏端权重显示,不代表测得的陷阱位置。所有空间视图都属于定性映射,不能用于场峰值、局部连续性或击穿定量判断。

色标固定:面密度 0–10¹³ cm⁻²、电势 0–30 V、|Ex| 0–30 V/µm、温度 300–450 K、陷阱 0–1;超出上限颜色饱和。有源区垂直尺寸放大 5 倍,栅宽压缩 100 倍;缓冲层与衬底截短,金属高度示意,不能量图提取工艺尺寸。能带只表示极化异质结、势垒及三角阱概念,没有量子子带求解。

功率、IMD3、AM-AM 与对照实验定义

Pin 为 50 Ω 源的可用功率:单音开路幅度 √(8RsPin);双音两载波总可用功率相同,各分一半。Pout 为外部 RL 上去直流后的总 RF 功率 ⟨(Vd,ext−均值)²⟩/RL;基波功率为 DFT 峰值幅度²/(2RL)。增益为基波输出功率/源可用功率,双音使用两个载波 DFT 功率之和。效率为总 RF 输出/漏电源直流供给,不是 PAE。RL 的直流热损耗计入完整能量账。

功率平衡:VDD⟨id,port⟩+⟨vg,ext ig⟩ = RL⟨id,port²⟩+Rd⟨id,port²⟩+Rg⟨ig²⟩+⟨vg ig+vd id,port⟩。最后一项包括导电耗散、电荷储能变化及后向 Euler 数值耗散。显示代数平衡残差不等价于物理模型标定;另行验证步长收敛和周期闭合。

IMD3 读取 2f₁−f₂(第 63 点)及 2f₂−f₁(第 66 点),分别相对各侧载波取最差 dBc。AM-AM 是单音 Pin 扫描所得基波 Pout;AM-PM 显示相对小信号参考的主值相位差。1 dB 压缩使用小信号扫幅增益为参考,仅在扫描范围跨越 1 dB 时给出插值结果。

A/B 保存全部参数与慢时刻;B 改变机制时保持偏置、频率、负载及源可用输入功率,除非主动调整这些控制。未强制相同输出功率或小信号增益。温度/陷阱关闭意味着固定 T=300 K / x=0;电荷线性化、导电线性化、速度饱和、寄生和场板开关都修改方程。

权威来源与实现依据

来源支持机制与方法,不为本应用的演示参数或图形背书。所有参数均未经器件数据标定。

操作、源码与扩展边界

新增微观放大镜覆盖极化、栅控、漂移、位移电流、源场板、晶格热、陷阱与射频非线性。金色探针对应总览中的同一横向位置;1× / 2× / 4× 缩小局部横向窗口,标注 µm 视野,垂直与粒子大小不按原子尺度。RF 相位控制统计样本与波形;包络时刻独立控制 T 和 x。微观色点不用于反算电流,不提供定量量子或散射求解。

拖动三维视窗旋转,滚轮缩放;顶部切换全景/栅区/沟道镜头,剖切与爆炸视图可组合。点击可见材料读取对应机理。下方相位滑块或曲线点击同步时间。左侧控制电路与机制,结构和时间常数在参数折叠栏。右侧选择包络时刻;底部七步路径自动切换预设,也可暂停独立探索。先“保存为 A”,再改动形成 B;恢复 A 会恢复其完整条件。

源码:lib/model.ts(纯数值模型)、app/Device.tsx(三维)、app/Charts.tsx(同步图)、app/page.tsx(状态和交互)、app/Guide.tsx(手册)。npm ci 后 npm run dev;npm run build 生成发布构建。tests/physics.test.ts 可用 Node 的 TypeScript stripping 执行。下载源包包含锁文件、验证输出及独立静态版本,可按 README 启动。

尚未实现:定量 TCAD/量子求解、二维 Poisson 场、空间连续性自洽输运、非准静态/毫米波模型、独立每指热网络、调制 IQ 测量与 EVM/ACLR、真实器件标定、完整动态记忆双音谱。器件总览使用连续密度色带;微观放大镜使用非均匀统计样本表示面密度,并以随机抖动与漂移方向作机理编码,不表示真实电子轨迹。